
半導體晶圓對微污染物的存在非常敏感,為了達成晶圓表面無污染物的目標,必須移除表面的污染物並避免在製程前讓污染物重新殘餘在晶圓表面。因此半導體晶圓在製造過程中,需要經過多次的表面清洗步驟,以去除表面附著的金屬離子、原子、有機物及微粒。
目前晶圓清洗技術大致可分為濕式與乾式兩大類,仍以濕式清洗法為主流。所謂濕式化學清洗 (wet chemical cleaning) 技術,是以液狀酸鹼溶劑與去離子水之混合物清洗晶圓表面,隨後加以潤濕再乾燥的程序。濕式化學清洗
在清洗程序上,去除有機物為第一步驟,因為有機物會讓表面形成疏水性,造成水溶液的清洗效果不佳,去除有機物可利用 NH4OH-H2O2 (意即氨水及過氧化氫) 溶液 (RCA Standard Cleaning-1, SC-1) 或鉻酸-硫酸混合液清洗,其中鉻酸-硫酸混合液比較不受歡迎,是因為有關鉻離子廢棄物丟棄的問題。
當有機物被去除後,水溶液就可比較容易的去除無機殘餘物,無機殘餘物可能與晶圓表面的二氧化矽層複合,可使用稀薄的氫氟酸溶液進行第二步驟的清洗,以便去移除二氧化矽薄膜層。故清洗程序的第三個步驟為移除無機殘餘物,過氧化氫酸的溶液可用來達成這個目的。特別是含氫氯酸的過氧化氫溶液 (RCA Standard Cleaning-2, SC-2),氫氯酸對去除鐵原子、鈉原子及硫特別有效。假使 SC-1 伴隨著 SC-2 使用,則必須小心兩者的蒸氣混合物,以避免氯化銨微粒產生。最後必須再以去離子水潤濕 (rinse) 以清洗殘餘的 HF,最後乾燥 (dry) 完成整個溼式清洗程序。
本文出自: http://tw.knowledge.yahoo.com/question/question?qid=1012041201518柯建志 發表在 痞客邦 留言(0) 人氣(1,029)

我推薦用洗面乳或者洗面膠,洗完臉比較清爽,皮膚也不會乾燥、粗操!
另外網購價格較便宜!
使用方法是先將臉部拍濕,取適量磨砂洗面膠於臉部按摩2-3分鐘,再用清水洗淨。
適用肌膚適用一般、油性、粗糙的肌膚。
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K-7408 品牌品質不與置評 !
電解水機製造出來的鹼性水,(不論有無煮沸)會出現白色碳酸鈣沈澱,
首先,恭喜您~電解水機的電解效能(PH值 / ORP)還不錯!(還沒壞!)
但是,後續的問題將接踵而至…..
回覆您的問題:
1 .
電解鹼性離子水的PH值較高,例 . PH= 9.2 ~ 9.5 ,
表示其中溶存(鈣離子的濃度)較高,但鈣離子難溶於水 …
鈣離子濃度超過約15mg/L,容易與水中(碳酸)(二氧化碳溶於水)化合,
因此,生成白色碳酸鈣沈澱。
這個問題目前只有一項最適合做法,可改善或避免碳酸鈣生成!
電解水機電解水源硬度過高,一定必須要採用(部份軟化)前置濾材…
適度軟化後,電解水質也才有具備機能性與(療效)概念。
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要喝就要喝(有機能)的鹼性水,熱水瓶煮沸…也是要用(鹼性水),
PH=9.2~9.5的鹼性水,別家的電解水質~難喝!又有碳酸鈣問題!
【電解水機園地】製造的電解水質,沒有這個問題!還可以連結(療效)!
參見全網路關鍵字資訊~ 鹼性資源 / 有機鈉
2.
電解效能較高,電解鹼性水(生飲)或(煮沸飲用)(煮湯)…
才有具體(機能性)。(只要是指陽離子–鈣 / 鈉 / 鉀離子)
參見~【電解水機園地】創建/編輯 維基百科-電解水/電解水機
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過於包裝考量或只為行銷目的,只會衍生更多(爭議)和(負面問題)…
您不就是遇到了!?
即使(國*牌)/(日*),談到(電解水機)(電解水)…
問題也都得不到釐清!
這也是近6年來成就了【電解水機園地】是無可取代的角色!
本文資訊內容同步發表於【電解水機園地】
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