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我以前做半導體時,常有接觸 DI WATER,要一星期更新所需物料和程序一次,用於界 DIE 機的沖洗系統。
找到以下資料,雖不大對題,但可免沒人答要刪題扣分:
去離子水的定義
去離子水是指除去了呈離子形式雜質後的純水。國際標準化組織ISO/TC 147規定的“去離子”定義爲:“去離子水完全或不完全地去除離子物質,主要指採用離子交換樹脂處理方法。”現在的工藝主要採用RO反滲透的方法制取。應用離子交換樹脂去除水中的陰離子和陽離子,但水中仍然存在可溶性的有機物,可以污染離子交換柱從而降低其功效,去離子水存放後也容易引起細菌的繁殖。 在半導體行業中,去離子水被稱爲“超純水”或是“18兆歐水”。
去離子水的處理步驟
從自來水到去離子水一般要經過幾步處理 :
1、先通過石英砂過濾顆粒較粗的雜質
2、然後高壓通過反滲透膜
3、最後一般還要經過一步紫外殺菌以去除水中的微生物
4、假如此時電阻率還沒有達到要求的話,可以再進行一次離子交換過程最高電阻率可達到18兆。
相對而言,蒸餾水只是先氣化再冷凝,其純度如電導率一般不如純度高的去離子水,半導體工業中用的大多數是高純度的去離子水
擇自: 15us/cm 10us/cm 5us/cm 3us/cm 2us/cm 1MΩ.cm 5MΩ.cm 10MΩ.cm 15MΩ.cm 16MΩ.cm 18MΩ.cm 18.2MΩ.cm等等
參考資料:<
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